SHIWEI是维-小型磁控溅射镀膜仪主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低。该系列设备主要部件采用进口或者国内最优配置，从而提高设备的稳定性，另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。
该设备标配2只Φ2英寸永磁靶，一台500W直流溅射电源（用于溅射金属导电材料），1台300W全自动匹配射频溅射电源（用于溅射绝缘材料），主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。
目前，是维光电已经和清华北大，复旦大学，武汉大学，华中科技大学，中科院物理所等众多高校，科研院所进行合作，致力于提供“材料生长-器件制备-光机电应用-半导体工艺”全流程产品及服务，助力科学研究、实验开发到推广应用的创新成果转化。
二、设备主要技术参数
真空腔室
Ф250×260mm（具体尺寸以设计为准）），不锈钢材质，氩弧焊接
样品台
Ф100mm，高度：60～120mm可调，旋转：0-20r/min可调，可加热至300℃；可选配偏压清洗功能；
真空系统
机械泵（3L/S）+分子泵(60L/s)；GDC-25电磁挡板阀；DN63mm限流阀；
极限真空
8.0×10-5Pa；
真空抽速
大气～8×10-4Pa≤30min；
真空测量
全量程复合真空计，测量范围：105Pa～10-5Pa；
磁控靶
Φ2英寸2只（含靶挡板），兼容直流/射频电源溅射；
溅射电源
1台500W直流溅射电源，1台300W全自动匹配射频溅射电源；
质量流量计
10sccm、50sccm质量流量控制器各1套；
膜厚仪
国产膜厚仪；可选配进口InficonSQM-160单水冷探头膜厚仪，测量精度0.1Å
控制方式
PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障
设备尺寸
L60cm×W60cm×H85cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口；
三、设备主要配置表
序号
部件名称
型号/参数
数量
品牌/生产厂家
1
真空腔室
Ф250×260mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢
1套
SHIWEI是维
2
分子泵
67L/s，1.0E-05Pa
1套
Pfeiffer等
3
机械泵
TRP-12,3L/S
1台
国产
4
真空规
全量程真空规
1台
上海玉川
5
溅射靶
Ф2英寸永磁靶（含靶挡板）
3组
SHIWEI是维
6
射频电源
500W直流溅射电源
1台
SHIWEI是维
300W全自动匹配射频溅射电源
1台
7
流量计
10sccm/50sccm
2套
WARWICK
8
控制系统
PLC+触摸屏智能控制系统
1套
SHIWEI是维
9
冷水机
icooler-1003
1台
SHIWEI是维
10
前级阀
GDC-25b电磁挡板阀
1套
川北真空
11
旁路阀
GDC-25b电磁挡板阀
1套
川北真空
12
限流阀
DN63mm
1套
SHIWEI是维
13
充气阀
Φ6mm，电磁截止阀
1套
七星华创
14
放气阀
Φ6mm，电磁截止阀
1套
七星华创
15
基片台
可拆卸式，尺寸60×60mm，旋转：0-20r/min可调；基片可加热至300±1℃（选配）；
1套
SHIWEI是维
16
真空管路
波纹管、真空管道等
1套
SHIWEI是维
17
设备机架
机电一体化
1台
SHIWEI是维
18
预留接口
CF35法兰一个
1个
SHIWEI是维
19
备件
CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
1套
SHIWEI是维
四、选配产品（可选部件，另外单独报价计价）
序号
名称
型号/参数
数量
生产厂家
1
偏压电源
1.5KV
1台
北京
2
膜厚监测仪
SQM-160单水冷探头
1套
英福康Inficon
膜厚测量及控制
膜厚仪探头接口从腔室KF50法兰引入；晶振探头安装在靠近基片台附近，用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±0.1Å。具备与电源联锁控制功能，若镀膜达到设置厚度，可自动切断电源，停止镀膜，实现自控膜厚。
NFICONSQM-160晶振膜厚仪+单探头
SQM-160是利用INFICON石英晶体传感技术在镀膜过程中测量沉积速率和膜厚的精密仪器，标准型有两路传感器输入；同时，4路传感器输入可选，具体视用户实际应用而定；双输出可以向操作者提供直观的模拟沉积速率及膜厚信号。
在大型系统中，传感器输入可以分配给不同材料，采集的数据通过平均值，以达到更精确的沉积控制；也可以设定为双探头模式。在高沉积速率过程中，为了延长传感器的使用寿命，速率采集模式允许探头带一个档板。用户可以自己选择0.1Å/s还是0.01Å/s的速率显示模式。另外，还可以选择频率或质量显示模式。SQM-160的四路继电输出可以用来控制沉积源、探头档板、信号时间、膜厚设定值以及晶片失效信号等。
数字输入可以通过外部信号来对读数进行开始/停止和清零操作。SQM-160石英晶体监测仪采用了RS-232接口和Windows窗口软件，可以通过电脑上进行调试安装。软件可以用来设置和存储所有参数，包括仪器操作和保留程序数据到特定的Excel文档。同时，USB或以太网选项也添加通信协议中，以最大程度方便不同用户。
产品特点：
双通道（标准型），四通道可选
沉积速率/膜层厚度模拟输出
高精度：0.03Hzat10个读数/s
RS-232接口，USB或以太网可选
五、设备主要优势
实用性
设备集成度高，结构紧凑，占地面积小，可以放置于实验桌面上或者手套箱内；
自主研发的水冷式高温电阻蒸发源可以蒸镀一些熔点高的难熔金属，比如Ti，
Cr等；
方便性
设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁性；
设备可将主机置于手套箱内，水、电、气等通过KF40接口接到手套箱外，与手套箱的对接灵活方便；
设备工作电压为220V，整机功率小于2KW，对实验室的供电要求低；
稳定性
设备主要零部件采用进口或国内知名品牌，保证了设备的质量及稳定性；
先进性
独立开发的PLC+触摸屏智能操作系统，具有智能控制模式和调试维修模式；
控制系统具备漏气自检与提示功能，当设备漏气时，系统会自动提示设备漏气，以便用户进行检漏，保证设备正常稳定运行；
控制系统具备保养维护提示功能，当设备运行达到一定时长，系统会自动提示设备需要维护保养，以便用户及时进行维护，保证设备正常稳定运行；
控制系统具备通讯故障自检功能，系统对分子泵、溅射电源、真空规、电机、流量计等部件的通讯进行自检，如果某个部件出现故障，可以按照系统中的各部件故障查询办法进行查询，及时确认故障原因，保证设备安全；
控制系统具备数据记录与导出功能，控制系统记录设备的操作记录及镀膜过程数据，可以在系统中查看这些数据，也可以用U盘导出这些数据；
该系统具备三个等级级密码保护功能，不同等级不同使用权限，确保设备
的安全性和数据的保密性；
六、设备安装条件（用户自备）
供电要求
设备供电总功率≤2KW，220V，单相三线制（一火一零一地）；
插座距离设备尺寸≤2m；
其它：如用户选配其它选购件，用户自行准备增配件的供电要求，不在安装条件范围内；
供水要求
设备需水冷的部件有蒸发电极、膜厚仪探头；
水压0.2～0.4MPa，水温10～25℃；
安装场地要求
设备尺寸为：长×宽:L60cm×W60cm，建议安装场地尺寸≥L60cm×W80cm。
环境要求
环境温度：5～40℃；
环境湿度：＜85%；
室内无大量尘埃，无腐蚀性、易燃易爆气体；
七、售后服务承诺、安装调试验收、培训、文档资料
售后服务
产品质保期为一年；
在质保期内供方将免费维修和更换因设备质量原因造成的零部件损坏；
在质保期外设备零部件的损坏，提供的配件只收成本费；
质保期内或质保期外如设备出现故障，供方接到用户的正式通知（含电话或邮件通知）后，我公司技术人员于48小时内，赶到技术服务现场并开始维修。
安装调试验收
我公司负责将设备初验收合格后，包装好免费运送至客户所在地，经检验后拆封，供方开始安装调试，运输费用及安装调试费用我司负责；
我公司根据客户要求，负责组织专业人员对设备进行安装调试，客户需提供基本的安装条件和专人配合，以确保安装调试的顺利进行；
设备安装调试到位后，双方组织验收，并对验收单进行验收签字；
我公司向客户提供的设备资料包括：设备说明书、验收单、装箱单、产品合格证、备品备件清单；
我公司在客户安装现场进行的设备验收发生的一切费用由我司承担；
培训
我公司派技术工程师对客户人员在设备安装调试时进行技术培训。使需方人员能掌握有关设备的使用、维护，达到能独立进行操作、维护等的目的。
培训地点为客户设备使用现场，培训人数不少于2人，培训时间根据实
际情况而定，培训费用由我司承担；
文档资料
设备操作、维护使用说明书1套；
设备电气原理图1套；
设备出厂合格检验证明。
